ITO靶材制备用气氛升降炉的设计方案及要求-江苏前锦炉业设备有限公司
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ITO靶材制备用气氛升降炉的设计方案及要求

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ITO靶材制备用气氛升降炉的设计方案及要求

作者:江苏前锦业设备有限公司

关键词:升降炉

   玻璃显示有着及其广泛的应用领域,手机、电脑、电视、触摸显示屏等都离不开它。但是玻璃本身即不导电也不发光。它能显示其奥秘就在它背后的那层肉眼不可见透明的膜。也就是我们常说的ITO靶材。ITO靶材的制备技术长期被日本、韩国等垄断。但是随着其在工业领域的地位越来越重要,我们也开始研发它的制备技术。

今天我们就来介绍ITO靶材烧结用气氛升降炉的设计方案及要求。

在ITO靶材的制备中共有两个步骤的烧结,一是粉料的煅烧,关于这个工艺设备在以前的文章中已经有过介绍。第二个就是由粉料压制成靶后的高温烧结。它需要约1650度的氧气环境下煅烧,所以我们选在气氛升降炉为炉型。为使靶材具有最好的性能,需要满足以下最重要的三个条件:温度均匀性、气氛均匀性以及炉膛洁净度。下面我们就着重介绍主要的技术参数。本设计方案中所烧结的靶材为平面靶。

气氛升降炉炉膛界面图

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在炉膛尺寸方面,设计有效容积为深1500mm,宽1100mm,高650mm。设计温度为1750度,长时间使用温度为1650度,采用硅钼棒加热。在炉膛材料的选择上采用1900型氧化铝陶瓷纤维棉板,并覆有耐温1800度的纳米涂层起到固化纤维棉板的表面,能够在长时间的使用过程中不掉落杂质。

全炉共设32台气体流量计来控制氧气进入,并配有气体预热装置,使气体充分预热后再进入炉膛,能有效的提升炉膛温度均匀性。并设6个控温点,采用B型热电偶控温。再排气方面,顶部共设3路排气,通过变频风机控制,能有效排除在排胶工艺及烧结工艺时的废气。

ITO靶材制备用气氛升降炉的设计方案及要求

气氛升降炉实样

微信截图_20190601211628.jpg

 

 

 


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